文章目录

1 引言

2 实验

2.1 试剂、原料和仪器

2.2 石英玻璃化学抛光机理

2.3 化学抛光工艺流程和方法

3 实验结果分析

3.1 石英玻璃片初始粗糙度对抛光效果的影响

3.2 化学抛光液温度的选择

3.3 化学抛光液中添加剂的选择

3.4 化学抛光时间的选择

3.5 石英玻璃片的表面形貌

3.6 抛光石英片的光亮度

4 结论

文章摘要:石英玻璃是紫外光刻、激光核技术等精密光学系统的关键光学元件。石英玻璃在加工过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题，化学抛光能有效消除石英玻璃的亚表面损伤。介绍了石英玻璃片的化学抛光工艺原理和过程，利用正交实验法优化了石英玻璃化学抛光工艺参数，分析了化学抛光过程中抛光液成分、抛光液温度和抛光时间对石英玻璃片表面粗糙度的影响。实验结果表明，采用氟化氢铵、水和丙三醇配置的化学抛光液，在最优化的工艺参数时，石英玻璃片经过化学抛光，表面粗糙度可降到100 nm左右，可见光透过率最高可达到89%。为石英玻璃光学零件的化学抛光工艺提供了理论依据和技术支持。

文章关键词:

论文作者:汤英童 杨长城 

论文DOI:10.19519/j.cnki.1672-3392.2022.02.008

论文分类号:TQ171.731